Internet Access - Configs

Китайские учёные из ведущих исследовательских институтов объявили о разработке метода производства транзисторов с технологическим узлом 3 нм, использующего глубоко‑ультрафиолетовую (DUV) литографию вместо традиционной экстремально‑ультрафиолетовой (EUV). Исследование было представлено в рамках конференции по полупроводникам, где учёные продемонстрировали схему процесса, позволяющую формировать критические линии шириной менее 10 нм с помощью существующего DUV‑оборудования, которое доступно в Китае без ограничений, налагаемых западными поставщиками. На данный момент технология находится на ранних экспериментальных стадиях, масштабное производство пока невозможено, однако результаты подтверждают, что страна ищет альтернативные пути к созданию передовых микрочипов, обходя ограничения на поставку EUV‑сканеров. Если подход будет усовершенствован, он может снизить зависимость отрасли от ограниченного количества поставщиков EUV‑техники, ускорить локальное производство высокопроизводительных процессоров и изменить баланс сил в глобальном полупроводниковом рынке, что важно как для производителей оборудования, так и для конечных пользователей, получающих более доступные решения. #блокировки #цензура 🔗 Источник ⚠️ Отдельные организации, упомянутые в данном материале, могут иметь статус «нежелательных» на территории РФ. Актуальный перечень размещён на официальном сайте Минюста РФ: minjust.gov.ru