🔒Открыть пост
и посмотреть медиа
и посмотреть медиа
Китай отстает в микрочипах на 14 лет – но отрыв уменьшается
Так считает гендиректор полупроводникового подразделения немецкого производителя линз Zeiss Франк Рохмунд. По его данным, Китай сильно продвинулся в области глубокой ультрафиолетовой (DUV) литографии – однако конкурировать с новейшим оборудованием ASML им сложно, и до современных EUV-установок (экстремального УФ) еще далеко.
При этом Рохмунд считает, что санкции лишь заставляют Китай вкладывать больше денег в полупроводники и тем самым ускорять инновации и снижать отрыв. Поэтому запрет на поставки EUV-оборудования тормозит страну лишь в моменте, и на большой дистанции ситуация может кардинально измениться.
Мой Компьютер
